현대의 주요 산업인 반도체, TFT LCD 제조공정에 사용되는 GAS는 청정도 및 순도유지가 제품의 품질에 결정적 역활을 하고 있다.
따라서 배관 시공시 외부로부터 혼입되는 각종 이물질을 철저히 차단해야할 필요성으로 일반 GAS와 구분하여 UHP GAS(ULTRA HIGH PURITY GAS)라고 지칭하며 그 사용도에 따라 BULK GAS와 PROCESS GAS로 나눌수 있다.

PROCESS에 사용하는 CHEMICAL은 DIFFUSION PHOTO, ETCH, 후공정에 사용하는 ETCHING, 사진현상, 회로보호 등에 사용되며 유기, 무기 CHEMICAL로 구분된다.
유기 CHEMICAL은 폭발성 성질을 가진 매우 위험한 물질로 화기에 의한 폭발에 주의하여야 한다.
무기 CHEMICAL은 산성물질이므로 인체에 지대한 영향을 주므로 취급에 주의하여야 한다.

PCW는 생산장비의 공정 중 고온의 CHAMBER를 냉각시켜 주는 역할을 하며 PROCESS 장치의 COOLING 상태를 유지시킬 수 있도록 압력, 유량, 온도, LINE의 내구성을 주 목적으로 시공 설치한다.

현대의 주요 산업인 전자, 합성 섬유공업, 제약, 원자력 발전, 사진공업등에 사용되는 물은 제품의 품질이나 운전 관리에 결정적역활을 하고 있다.
이와같은 사업에 사용되는 물은 극도로 정제된 물을 총칭한다.
즉, 초순수(ULTRA PURE WATER 또는 DE IONIZER WATER)가 대량 필요하며, 초순수의 정의는 보통 PPM의 1/1000 단위인PPB(1/10억)의 순도를 갖고 있는 영역을 지칭한다.

생산공정에서 발생되는 ACID GAS는 청정실내에 방치될경우 장비나 인간에게 치명적인 피해를 유발하는 유해 GAS이다.
따라서, 각 생산 LINE은 ACID GAS로 부터 장비와 인간이 보호받을 수 있도록 ACID GAS를 외부로 배출, 처리 할 수 있는 SYSTEM을 말한다.

생산장비에서 발생하는 TOXIC, ORGANIC GAS 배기는 청정실 내에 방출될시 냄새 및 인체에 치명적 피해(시력,호흡,환각장애 및 사망) 등을 유발시켜 생산에 큰 손실을 초래하게 되므로 닥트를 통해 옥상 SCRUBBER를 거쳐 외부로 방출 시키는 SYSTEM을 말한다.

반도체 생산 공정시 발생되는 폐 GAS나 유독성 GAS(CHEMICAL HUM등)를 VACUUM PUMP를 이용하여 1차적 배기 및 중화(1차 SCRUBBER)를 시킨후 대기중에 방출시키는 SYSTEM이다.

생산장비에서 배수되는 물(독성이 섞인물, 또는 재사용 할수없는 물)로서 배수 배관을 통하여 폐수처리장까지 안전하게 이송시키는 SYSTEM이다.